HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Role of hetero interface of ionic/covalent oxides for Pt/high-k/SiO2/Si MOS capacitors on Vfb shift(Pt/high-k/SiO2/Si MOSキャパシタにおけるイオン性/共有結合性酸化物のヘテロ界面がVfbシフトへ果たす役割)NABATAME, Toshihide. 218th ECS Meeting. 2010年10月10日-2010年10月15日.NIMS著者生田目 俊秀Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-09-05 12:51:52 +0900更新時刻: 2022-09-05 12:51:52 +0900