RFスパッタ法による単一ドメインBiFeO3 薄膜の 作製と評価
(Fabrication and Characterizations of Single Domain BiFeO3 Thin Films Prepared by RF sputtering)
第30回強誘電体応用会議. 2013.
NIMS著者
Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット
作成時刻: 2017-02-14 11:44:02 +0900更新時刻: 2018-06-05 13:19:53 +0900