HOME > 口頭発表 > 書誌詳細レーザーアブレーション法により生成されたSiナノ細線中への熱酸化応力誘起とフォノン閉じ込め効果(Stress and phonon confinement in thermally oxidized silicon nanowires synthesized by laser ablation)深田 直樹, 岡田直也, 鶴井隆雄, 伊藤俊, 村上浩一. 2006年秋季第67回応用物理学会学術講演会. 2006.NIMS著者深田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2017-02-14 10:56:45 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:39:24 +0900