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レーザーアブレーション法により生成されたSiナノ細線中への熱酸化応力誘起とフォノン閉じ込め効果
(Stress and phonon confinement in thermally oxidized silicon nanowires synthesized by laser ablation)

深田 直樹, 岡田直也, 鶴井隆雄, 伊藤俊, 村上浩一.
2006年秋季第67回応用物理学会学術講演会. 2006.

NIMS著者


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    作成時刻: 2017-02-14 10:56:45 +0900更新時刻: 2017-07-10 19:39:24 +0900

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