HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Exploring Enhanced Hole Gas Accumulation in Al-Catalyzed Si NW/Ge Core-Shell Heteroarchitectures for Transistor ApplicationsJEVASUWAN, Wipakorn, FUKATA, Naoki. MNC 2025. 2025年11月17日-2025年11月20日.NIMS著者ジェバスワン ウイパコーン深田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2025-11-18 03:12:09 +0900 更新時刻: 2025-11-18 03:12:09 +0900