HOME > 口頭発表 > 書誌詳細実験室硬X線光電子回折法によるInN表面近傍の化学状態選別構造(Chemical-state-discriminated hard X-ray photoelectron diffraction study for polar InN)山下 良之, ヤン アンリ, 小林 啓介. 第54回表面分析研究会. 2020. 招待講演NIMS著者山下 良之Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻 :2020-12-18 03:00:18 +0900 更新時刻 :2024-03-05 12:21:33 +0900