Concentration profiles in silica glass implanted by Zn ions for nanoparticle formation
(SiO2中のイオン注入Znナノ粒子の光学的・熱的特性)
The 8th International Symposium on Sputtering and Plasma Process. 2005年06月08日-2005年06月10日.
NIMS著者
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作成時刻: 2022-09-05 11:40:21 +0900 更新時刻: 2022-09-05 11:40:21 +0900