Ion energy distributions and radical densities in a CH4/H2 inductively coupled plasma used for diamond deposition
(CH4/H2誘導結合プラズマのイオンエネルギー分布及びラジカル密度)
25th International Conference on Phenomena in Ionized Gases. 2001年07月17日-2001年07月22日.
NIMS著者
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作成時刻: 2022-09-05 11:08:20 +0900 更新時刻: 2022-09-05 11:08:20 +0900