HOME > Presentation > Detailフローティングゾーン法による Siクラスレート化合物Ba8GaxSi46-x高品質単結晶の育成(High-quality Single Crystal Growth of Ba8GaxSi46-x by Floating Zone Method)新倉 ちさと, 高野 美和子, 廣戸 孝信, 逸見 有紀, 山本 悟, 三成 剛生. 2026年 第73回 応用物理学会 春季学術講演会. March 15, 2026-March 18, 2026.NIMS author(s)NIIKURA, ChisatoHIROTO, TakanobuHEMMI, YukiMINARI, TakeoFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2026-03-19 03:08:10 +0900 Updated at: 2026-03-19 03:08:10 +0900