HOME > 口頭発表 > 書誌詳細フローティングゾーン法による Siクラスレート化合物Ba8GaxSi46-x高品質単結晶の育成(High-quality Single Crystal Growth of Ba8GaxSi46-x by Floating Zone Method)新倉 ちさと, 高野 美和子, 廣戸 孝信, 逸見 有紀, 山本 悟, 三成 剛生. 2026年 第73回 応用物理学会 春季学術講演会. 2026年03月15日-2026年03月18日.NIMS著者新倉 ちさと廣戸 孝信逸見 有紀三成 剛生Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2026-03-19 03:08:10 +0900 更新時刻: 2026-03-19 03:08:10 +0900