Influences of Annealing Conditions on Flatband Voltage Properties Using Continuously Workfunction-Tuned Metal Electrodes
(金属／high-k絶縁膜キャパシタのフラットバンド電圧特性に与える仕事関数変調及び熱処理の影響)
International Workshop on Nano CMOS (IWNC). 2006. 招待講演
NIMS著者
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作成時刻: 2019-03-04 09:36:03 +0900更新時刻: 2024-03-05 12:20:54 +0900