Influences of Annealing Conditions on Flatband Voltage Properties Using Continuously Workfunction-Tuned Metal Electrodes
(金属／high-k絶縁膜キャパシタのフラットバンド電圧特性に与える仕事関数変調及び熱処理の影響)
International Workshop on Nano CMOS (IWNC). 2006年01月30日-2006年02月01日. 招待講演
NIMS著者
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作成時刻: 2019-03-04 09:36:03 +0900 更新時刻: 2024-03-05 12:20:54 +0900