HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Improvement of GaN/dielectric interface properties using atomic layer depositionNABATAME, Toshihide. The 2024 1st Asia-Pacific Atomic Layer Deposition (AP-ALD) Conference . 2024年10月17日-2024年10月20日. 招待講演NIMS著者生田目 俊秀Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2024-11-13 03:15:59 +0900 更新時刻: 2024-11-13 03:15:59 +0900