Y2O3 Thin Film Deposited by Two-step Process and Its Resistance to Halogen Plasma
(二段階プロセスで作製したY2O3薄膜とそのハロゲンプラズマ耐性)
2008 E-MRS Fall meeting. 2008年09月15日-2008年09月19日.
NIMS著者
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作成時刻: 2022-09-05 12:07:28 +0900 更新時刻: 2022-09-05 12:07:28 +0900