HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Y2O3 Thin Film Deposited by Two-step Process and Its Resistance to Halogen Plasma(二段階プロセスで作製したY2O3薄膜とそのハロゲンプラズマ耐性)ISHII, Masashi. 2008 E-MRS Fall meeting. 2008.NIMS著者石井 真史Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-09-05 12:07:28 +0900更新時刻: 2022-09-05 12:07:28 +0900