HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Development of p-type ion implantation technique for realization of GaN vertical MOSFETsRyo Tanaka, Shinya Takashima, Katsunori Ueno, Masahiro Horita, Jun Suda, UZUHASHI, Jun, OHKUBO, Tadakatsu, Masaharu Edo. International Workshop on Junction Technology (IWJT2023). 2023年06月08日-2023年06月09日. 招待講演NIMS著者埋橋 淳大久保 忠勝Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2023-07-20 03:28:59 +0900 更新時刻: 2024-01-09 03:09:00 +0900