HOME > 口頭発表 > 書誌詳細炭化ケイ素モノフィラメントへの炭窒化ホウ素界面層の高速均質CVDコーティング且井 宏和, 下田 一哉, 堀田 幹則. 日本セラミックス協会 第38回秋季シンポジウム. 2025年09月17日-2025年09月19日.NIMS著者下田 一哉Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2025-12-10 03:12:35 +0900 更新時刻: 2025-12-10 03:12:35 +0900
