Near-surface Sensitive Infrared Reflection Spectroscopy on SiO2 Implanted with High-flux Negative-ions
(大電流負イオン照射されたSiO2の近表面選択赤外分光)
The 7th International Symposium on Sputtering and Plasma Process. 2003年06月11日-2003年06月13日.
NIMS著者
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作成時刻: 2022-09-05 11:22:59 +0900 更新時刻: 2022-09-05 11:22:59 +0900