Characteristics of Low Pressure Inductively Coupled VHF Plasma Used for Nanostructured Carbon Deposition
(ナノカーボン合成用VHFプラズマの特性)
The 7th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes. 2003年06月11日-2003年06月13日.
NIMS著者
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作成時刻: 2022-09-05 11:23:51 +0900 更新時刻: 2022-09-05 11:23:51 +0900