HOME > 口頭発表 > 書誌詳細Influence of Oxygen Transfer in Hf-based High-k Dielectrics on Flatband Voltage Shift(Hfからなるhigh-k誘電体で酸素移動がフラットバンド電圧シフトへ及ぼす影響)NABATAME, Toshihide. 7th International Conference on Si Epitaxy and Heterostructures. 2011年08月28日-2011年09月01日. 招待講演NIMS著者生田目 俊秀Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-09-05 13:18:28 +0900更新時刻: 2024-03-05 11:43:31 +0900