強誘電HfxZr1-xO2薄膜における最表面ZrO2層駆動の結晶化促進メカニズムの理解
(Understanding Crystallization Enhancing Mechanism in Ferroelectric Thin HfxZr1-xO2 Films Driven by the Topmost ZrO2 Layer)
第31回 電子デバイス界面テクノロジー研究会 －材料・プロセス・デバイス特性の物理－. 2026年01月29日-2026年01月30日.
NIMS著者
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作成時刻: 2026-07-31 03:07:56 +0900 更新時刻: 2026-07-31 03:07:56 +0900