Ni nanoparticles dipersed in SiO2 fabricated by high-flux negative-ion implantation of 60 keV
(60 keV大電流負イオン注入法によりシリカガラス中に分散させたNiナノ粒子)
SPIE's Int. Symp. on Smart Materials, Nano- and Micro-Smart Syst. 2002年12月16日-2002年12月18日.
NIMS著者
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作成時刻: 2022-09-05 11:17:00 +0900 更新時刻: 2022-09-05 11:17:00 +0900