HOME > 公開特許出願 > 書誌詳細[公開特許出願] ＧａＩｎＮ薄膜の製造方法、及び、ＧａＩｎＮ／ＧａＮヘテロ構造の製造方法2026-05-18. 特開2026080386号 (Google Patents) NIMS著者角谷 正友作成時刻 :2026-05-21 03:07:00 +0900 更新時刻 :2026-05-21 03:07:00 +0900
