HOME > 公開特許出願 > 書誌詳細[公開特許出願] 半導体ヘテロ薄膜のその場作製および評価方法1994-09-22. 特開H06268037号 (Google Patents) , 特許1995998号NIMS著者石川 信博作成時刻 :2023-07-22 21:44:30 +0900 更新時刻 :2023-07-22 21:44:30 +0900
