HOME > 公開特許出願 > 書誌詳細[公開特許出願] 自己組織単分子膜をからなるステンシルマスクおよびステンシルマスクを用いる微細加工方法2003-11-25. 特開2003334489号 (Google Patents) , 特許3924610号NIMS著者板倉 明子作成時刻 :2023-07-22 21:44:48 +0900 更新時刻 :2023-07-22 21:44:48 +0900
