HOME > 公開特許出願 > 書誌詳細[公開特許出願] 垂直磁化膜構造およびその製造方法、それを用いた磁気抵抗素子およびその製造方法、ならびにこれらを用いたスピントロニクスデバイス2017-02-23. 特開2017041606号 (Google Patents) , 特許6583814号NIMS著者宝野 和博大久保 忠勝三谷 誠司介川 裕章作成時刻 :2023-07-22 21:45:50 +0900 更新時刻 :2023-07-22 21:45:50 +0900