HOME > Published patent applications > Detail[Published patent application] 垂直磁化膜構造およびその製造方法、それを用いた磁気抵抗素子およびその製造方法、ならびにこれらを用いたスピントロニクスデバイス2017-02-23. 2017041606 (Google Patents) , 6583814NIMS author(s)HONO, KazuhiroOHKUBO, TadakatsuSUKEGAWA, HiroakiCreated at :2023-07-22 21:45:50 +0900 Updated at :2023-07-22 21:45:50 +0900