パワーエレクトロニクス応用に向けたMOCVD法によるBi系酸化物薄膜の作製 | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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パワーエレクトロニクス応用に向けたMOCVD法によるBi系酸化物薄膜の作製
(Preparation of Bi-based Oxide Films by MOCVD Targeting Power Electronics Applications)

河合伸哉, 土屋哲男, 有沢俊一, 毛塚博史, 露本伊佐男, 舘野康史, Petre Badica, 遠藤和弘.

電気学会研究会資料 9-14. 2016.

NIMS著者

有沢俊一

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

作成時刻: 2022-10-22 02:47:44 +0900更新時刻: 2022-10-22 02:47:44 +0900

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