ナノカーボン合成用VHFプラズマの特性 | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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Characteristics of Low Pressure Inductively Coupled VHF Plasma Used for Nanostructured Carbon Deposition
(ナノカーボン合成用VHFプラズマの特性)

OKADA, Katsuyuki, KOMATSU, Shojiro, MATSUMOTO, Seiichiro.

Proceedings of The 7th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes (ISSP2003) 124-127. 2003.

NIMS著者

岡田勝行

Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット

作成時刻: 2022-09-05 11:27:00 +0900 更新時刻: 2022-09-05 11:27:00 +0900

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