HOME > その他の文献 > 書誌詳細Patterned Ion Implantation to Insulators by Using Stencil Masks of Si Thin Film and Porous Alumina(Si薄膜及び多孔質アルミナのステンシルマスクを用いた絶縁体へのパターンイオン注入)KISHIMOTO, Naoki, SATO, Keisuke, NAKAMURA, Masahide, PAN, Jin, TAKEDA, Yoshihiko. Proceedings of IUMRS-ICA2008 9999-1-9999-1. 2008.NIMS著者岸本 直樹武田 良彦Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-09-05 12:09:38 +0900更新時刻: 2022-09-05 12:09:38 +0900