HOME > その他の文献 > 書誌詳細Siナノ細線への熱酸化応力誘起とフォノン閉じ込め効果(Introduction of stress and phonon confinement in thermally oxidized silicon nanowires)深田直樹. 応用物理学会結晶工学分科会第127回研究会テキスト 45-50. 2007.NIMS著者深田 直樹Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-09-05 11:55:42 +0900更新時刻: 2022-09-05 11:55:42 +0900