HOME > Books > Detail強磁場印加コロイドプロセスによるセラミックスの配向制御鈴木 達. 反応場制御による新しい材料プロセッシング 293-311. 2004.NIMS author(s)SUZUKI, TohruFulltext and dataset(s) on Materials Data Repository (MDR)Created at: 2017-01-08 04:43:34 +0900 Updated at: 2017-04-06 19:24:26 +0900
