Characterization of amorphous and crystalline silicon nanoclusters in ultra thin silica layers | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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Characterization of amorphous and crystalline silicon nanoclusters in ultra thin silica layers
(超薄シリカ膜中のアモルファスおよび結晶質シリコンナノクラスターの分析)

Annett Thogersen, Jeyanthinath Mayandi, Terje G. Finstad, Arne Olsen, Jens Sherman Christensen, Masanori Mitome, Yoshio Bando.

Journal of Applied Physics 104 [9] 094315. 2008.

https://doi.org/10.1063/1.3014195

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作成時刻: 2016-05-24 15:37:44 +0900更新時刻: 2024-03-29 19:10:22 +0900

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