Electrical properties and surface morphology of heteroepitaxial-grown tin-doped indium oxide thin films deposited by molecular b
(分子線エピタキシー法でエピタキシャル成長させた錫添加酸化インジウム薄膜の表面モフォロジーと電気特性)
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作成時刻: 2016-05-24 11:45:14 +0900 更新時刻: 2018-12-14 23:02:00 +0900