HOME > 論文 > 書誌詳細Determination of trace impurities in graphite and silicon carbide by total reflection x-ray fluorescence spectrometry after homo(均一液液分離法/全反射蛍光X線分析法による黒鉛及び炭化珪素中の微量不純物の定量)YAMAGUCHI, Hitoshi, ITOH, Shinji, 五十嵐淑郎, 内藤久仁茂, 長谷川良佑. ISIJ International 779-782. 2000.NIMS著者山口 仁志Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-11-15 00:39:17 +0900更新時刻: 2022-11-15 00:39:17 +0900