HOME > 論文 > 書誌詳細Surface stress relaxation of silicon oxide by radical nitrogen(励起窒素によるシリコン酸化膜応力の緩和)A.N. Itakura, M. Shimoda, M. Kitajima. Applied Surface Science 216 [1-4] 41-45. 2003.https://doi.org/10.1016/s0169-4332(03)00494-x NIMS著者板倉 明子Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2016-05-24 11:53:34 +0900 更新時刻: 2026-10-01 05:54:42 +0900
