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著者名Chiemi Ishiyama, Akinobu Shibata, Masato Sone, Yakichi Higo.
タイトルEffects of Aspect Ratio of Photoresist Patterns on Adhesive Strength between Microsized SU-8 Columns and Silicon Substrate under Bend Loading Condition
掲載誌名Japanese Journal of Applied Physics 49 [6] 06GN14
ISSN: 13474065, 00214922
ESIでのカテゴリ: PHYSICS
出版社IOP Publishing
発表年2010
言語English
DOIhttps://doi.org/10.1143/jjap.49.06gn14
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