HOME > 論文 > 書誌詳細Reduction and removing of Al oxide film deposited on Cu substrate by electron beam(Cu基板上に蒸着したAl2O3膜の電子線による還元)A.Rar, YOSHITAKE, Michiko. Jpn.J.Appl.Phys. 4464-4468. 2000.NIMS著者吉武 道子Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-11-15 00:39:27 +0900 更新時刻: 2022-11-15 00:39:27 +0900