HOME > 論文 > 書誌詳細電子照射によるシリコンの表面応力の緩和(Electron stimulated surface stress relaxation on Si)成島哲也, 中村明子, 北島正弘, 河辺隆也. 表面科学 . 2001.NIMS著者板倉 明子Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-09-05 11:06:22 +0900 更新時刻: 2022-09-05 11:06:22 +0900
