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Site-selective formation of Si nanocrystal in SiO2 by femtosecond laser irradiation and Al deoxidization effects
(フェムトレーザー照射とAl還元効果を利用したSiO2中へのSiナノ結晶の形成位置制御)

Noriyuki Uchida, Youhei Mikami, Hiroshi Kintoh, Kouichi Murakami, Naoki Fukata, Masanori Mitome, Muneaki Hase, Masahiro Kitajima.
Applied Physics Letters 92 [15] 153112. 2008.
https://doi.org/10.1063/1.2905289

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    作成時刻: 2016-05-24 15:31:50 +0900更新時刻: 2024-04-01 20:36:59 +0900

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