CVD and ALD Co(W) Films Using Amidinato Precursors as a Single-Layered Barrier/Liner for Next-Generation Cu-Interconnects | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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CVD and ALD Co(W) Films Using Amidinato Precursors as a Single-Layered Barrier/Liner for Next-Generation Cu-Interconnects
(将来的Cu配線のための単層バリア/ライナーとしてのCVDおよびALD Co(W)膜)

Hideharu Shimizu, Yudai Suzuki, Takeshi Nogami, Nobuo Tajima, Takeshi Momose, Yoshihiko Kobayashi, Yukihiro Shimogaki.

ECS Journal of Solid State Science and Technology 2 [7] P311-P315. 2013.

https://doi.org/10.1149/2.008307jss

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作成時刻: 2016-05-24 17:28:23 +0900更新時刻: 2024-04-02 03:55:17 +0900

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