HOME > 論文 > 書誌詳細Reaction and Stability of Metal/Silicide Interface.(金属／シリサイド界面の反応と安定性.)J.P.Sullivan, Toshiyuki Hirano, T.Kameda, J.H.Weaver, J. P. Sullivan, T. Komeda, H. M. Meyer, B. M. Trafas, G. D. Waddill, J. H. Weaver. Applied Physics Letters 56 [7] 671-673. 1990.https://doi.org/10.1063/1.103308 NIMS著者Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2016-05-24 11:31:34 +0900 更新時刻: 2026-06-27 04:21:51 +0900
