Surface Segregation of Substrate Element on Metal Films in Film/Substrate Combination with Nb, Ti, and Cu.
(金属薄膜中における高速拡散挙動とその熱力学的考察.)

著者	M. Yoshitake, 吉原一紘, 吉原一紘, K. Yoshihara.
掲載誌名	Surface and Interface Analysis 18 [7] 509-513 ISSN: 10969918, 01422421 ESIでのカテゴリ: PHYSICS
出版社
発表年	1992
言語	English
DOI	https://doi.org/10.1002/sia.740180710
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