単元マグネトロンスパッタ法による膜厚30nmのBi系超伝導薄膜の作製.
(Fabrication of 30nm Thick Superconducting BiSrCaCuO Thin Films by Single-Target Magnetron Sputtering Method.)
NIMS著者
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作成時刻: 2016-05-24 11:33:26 +0900 更新時刻: 2018-12-14 22:02:19 +0900