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InAs Quantum Dots Growth by Modified Droplets Epitaxy Using Sulfur Termination
(硫黄終端を用いた改良液滴エピタキシー法によるInAs量子ドットの作製)

MANO, Takaaki, Watanabe Katsuyuki, Tsukamoto Shiro, Imanaka Yasutaka, Takamasu Tadashi, Fujioka Hiroshi, Kido Giyu, Oshima Masaharu, Koguchi Nobuyuki, Takaaki Mano, Katsuyuki Watanabe, Shiro Tsukamoto, Yasutaka Imanaka, Tadashi Takamasu, Hiroshi Fujioka, Giyu Kido, Masaharu Oshima, Nobuyuki Koguchi.
Japanese Journal of Applied Physics 39 [Part 1, No. 7B] 4580-4583. 2000.
https://doi.org/10.1143/jjap.39.4580

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    作成時刻: 2016-05-24 11:42:22 +0900 更新時刻: 2026-10-03 05:39:11 +0900

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