Development of Ni/Al and Ni/Ti/Al ohmic contact materials for p-type 4H-SiC | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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Development of Ni/Al and Ni/Ti/Al ohmic contact materials for p-type 4H-SiC
(p型4HSiCに対するNi/Al及びNi/Ti/Alオーム性電極材料の開発)

Ryohei Konishi, Ryuichi Yasukochi, Osamu Nakatsuka, Yasuo Koide, Miki Moriyama, Masanori Murakami.

Materials Science and Engineering: B 98 [3] 286-293. 2003.

https://doi.org/10.1016/s0921-5107(03)00065-5

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作成時刻: 2016-05-24 11:57:33 +0900 更新時刻: 2026-11-04 06:04:15 +0900

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