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著者名Ryutaro Souda, Takashi Aizawa.
タイトルCrystallization Kinetics of Water on Bare, Hydrogenated, and Hydroxylated Si(100) and Si(111) Surfaces Studied by RHEED, TOF-SIMS, and TPD
掲載誌名The Journal of Physical Chemistry C 123 [33] 20373-20383
ISSN: 19327447
発表年2019
言語English
ESIでのカテゴリ
DOIhttps://doi.org/10.1021/acs.jpcc.9b05348
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