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Stress inversion from initial tensile to compressive side during ultrathin oxide growth of the Si(100) surface
(シリコン(100)極薄酸化膜の成長によって生じた引っ張り応力の逆転現象)

Masahiro Kitajima, Tetsuya Narushima, Takayuki Kurashina, Akiko N Itakura, Seiichi Takami, Aruba Yamada, Kazuo Teraishi, Akira Miyamoto.

NIMS著者


    Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット


      作成時刻 :2016-05-24 17:05:00 +0900 更新時刻 :2022-09-05 13:50:00 +0900

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