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著者名Masahiro Kitajima, Tetsuya Narushima, Takayuki Kurashina, Akiko N Itakura, Seiichi Takami, Aruba Yamada, Kazuo Teraishi, Akira Miyamoto.
タイトルStress inversion from initial tensile to compressive side during ultrathin oxide growth of the Si(100) surface
掲載誌名Journal of Physics: Condensed Matter 25 [35] 355007
ISSN: 09538984 1361648X
発表年2013
言語English
DOI10.1088/0953-8984/25/35/355007
ESIでのカテゴリPHYSICS
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