Boron distributions in individual core–shell Ge/Si and Si/Ge heterostructured nanowires | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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Boron distributions in individual core–shell Ge/Si and Si/Ge heterostructured nanowires
(Ge/SiおよびSi/Geコアシェルナノワイヤ中のボロン原子分布)

Bin Han, Yasuo Shimizu, Jevasuwan Wipakorn, Kotaro Nishibe, Yuan Tu, Koji Inoue, Naoki Fukata, Yasuyoshi Nagai.

Nanoscale 8 [47] 19811-19815. 2016.

https://doi.org/10.1039/c6nr04384d

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作成時刻: 2016-12-10 22:54:30 +0900 更新時刻: 2026-10-03 05:08:30 +0900

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