HOME > 論文 > 書誌詳細シリコン酸化膜成長過程の表面応力変動(Surface Stress in the Growth of Silicon Oxide Layer)中村明子（板倉明子）, 成島哲也, 北島正弘, 倉科貴之, 寺石和夫他名. 真空 . 1999.NIMS著者Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-09-05 10:56:19 +0900 更新時刻: 2022-09-05 10:56:19 +0900
