HOME > 論文 > 書誌詳細Surface stress relaxation of silicon oxide by radical nitrogen(励起窒素によるシリコン酸化膜応力の緩和)ITAKURA, Akiko, KITAJIMA, Masahiro. APPLIED SURFACE SCIENCE . 2002.NIMS著者板倉 明子Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2022-11-15 00:40:28 +0900 更新時刻: 2022-11-15 00:40:28 +0900
