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著者名Xiaolong Zhang, Wipakorn Jevasuwan, Ken C. Pradel, Thiyagu Subramani, Toshiaki Takei, Naoki Fukata.
タイトルHole gas accumulation in Si/Ge core–shell and Si/Ge/Si core–double shell nanowires
掲載誌名Nanoscale 10 [45] 21062-21068
ISSN: 20403364 20403372
発表年2018
言語English
ESIでのカテゴリ
DOIhttps://doi.org/10.1039/c8nr05590d
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