Characterization of Impurity Doping and Stress in Si/Ge and Ge/Si Core–Shell Nanowires
(Si/GeおよびGe/Siコアシェルナノワイヤ中への不純物ドーピングと応力評価)
NIMS著者
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作成時刻: 2016-05-24 16:50:42 +0900更新時刻: 2024-04-02 04:53:56 +0900