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著者名Naoki Fukata, Masanori Mitome, Takashi Sekiguchi, Yoshio Bando, Melanie Kirkham, Jung-Il Hong, Zhong Lin Wang, Robert L. Snyder.
タイトルCharacterization of Impurity Doping and Stress in Si/Ge and Ge/Si Core–Shell Nanowires
掲載誌名ACS Nano 6 [10] 8887-8895
ISSN: 1936086X 19360851
発表年2012
言語English
ESIでのカテゴリCHEMISTRY
DOIhttps://doi.org/10.1021/nn302881w
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