HOME > 論文 > 書誌詳細Growth of Silicon Oxide on Silicon in the Thin Films Region in an Oxygen Plasma.(極薄膜領域における酸化シリコン膜のプラズマ中成長.)M. Kitajima, 黒木博, 新野仁, 中村一隆, H. Kuroki, H. Shinno, K.G. Nakamura. Solid State Communications 83 [5] 385-388. 1992.https://doi.org/10.1016/0038-1098(92)90250-d NIMS著者Materials Data Repository (MDR)上の本文・データセット作成時刻: 2016-05-24 11:33:27 +0900更新時刻: 2025-03-15 06:36:27 +0900
