Growth of Silicon Oxide on Silicon in the Thin Films Region in an Oxygen Plasma. | 研究者総覧SAMURAI - 物質・材料研究機構 (NIMS)

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Growth of Silicon Oxide on Silicon in the Thin Films Region in an Oxygen Plasma.
(極薄膜領域における酸化シリコン膜のプラズマ中成長.)

M. Kitajima, 黒木博, 新野仁, 中村一隆, H. Kuroki, H. Shinno, K.G. Nakamura.

Solid State Communications 83 [5] 385-388. 1992.

https://doi.org/10.1016/0038-1098(92)90250-d

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作成時刻: 2016-05-24 11:33:27 +0900 更新時刻: 2025-12-24 06:21:35 +0900

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