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著者名Sadahiro Tsurekawa, Kota Kido, Shu Hamada, Tadao Watanabe, Takashi Sekiguchi.
タイトルElectrical activity of grain boundaries in polycrystalline silicon – influences of grain boundary structure, chemistry and temperature
掲載誌名Zeitschrift für Metallkunde 96 2 197 206
ISSN: 00443093
発表年2005
言語English
DOI10.3139/146.101020
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